日本大明化学 TM-DAR TM-5D，用于静电卡盘的陶瓷层烧结及电极层共烧，可少量添加板状氧化铝粉末交替层叠，对晶粒生长进行取向（NTK/NGK） 另有应用于半导体设备各种零部件的耐蚀涂层的材料如下： 日本钇公司 氧化钇 氟化钇 氟氧化钇 YOF YF3 日本住友化学 AKP-15 AKP-20 AKP-30 AKP-50 AKP-53 日本住友化学 高纯氧化铝 AA-18 AA-10 AA-5 AA-3 AA-2 AA-1.5 AA-07 AA-05 AA-04 AA-03 AA-03F 主要用于半导体刻蚀设备、液晶面板、涡轮叶片等领域的耐蚀涂层的氟化钇 YF3、氟氧化钇 YOF，

Laminitt™系列静电吸附系统为解决真空状态下自动化夹持及吸附难题而开发。真空状态下现行夹持及吸附无法有效的吸附产品进行自动化加工，在这自动化加工过程中往往会损伤产品或残留污渍；尤其在显示面板行业ODF液晶滴入，LCD及OLED盖板玻璃真空贴合制程，以及太阳能电池板盖板玻璃真空贴合制程。 应用领域： 显示面板及移动电子、新能源及太阳能及其它真空及大气贴合领域。

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